上海宝瑞化工有限公司

　　主要用途

　　半导体与微电子行业

　　硅片蚀刻：25% TMAH溶液是重要的硅蚀刻剂，可精确控制硅的蚀刻速率和方向(各向异性蚀刻)，尤其适用于制造MEMS(微机电系统)、传感器等器件中的微结构(如硅柱、硅膜)。其优势在于对SiO₂和Si₃N₄的腐蚀速率低，便于通过这些材料作为掩膜实现选择性蚀刻。

　　光刻胶剥离：在芯片制造的光刻工艺后，TMAH溶液可用于去除残留的光刻胶(有机聚合物)，因其碱性可分解光刻胶成分，且对金属层(如铝、铜)的腐蚀性较低。

　　有机合成与化学分析

　　作为强碱试剂，用于实验室中的有机合成反应(如制备烯烃、炔烃)，或作为滴定分析中的标准碱溶液(需用邻苯二甲酸氢钾等基准物质标定)。在色谱分析中，可作为流动相的添加剂(如离子色谱)，调节溶液pH值或增强离子化效率。

　　其他应用

　　表面处理：用于金属表面的除油、除锈(通过碱性条件皂化油脂)，或作为清洁剂去除玻璃、陶瓷表面的有机物残留。

　　纺织工业：作为印染过程中的pH调节剂或催化剂，促进染料与纤维的结合。